陰極真空浸蝕XyJ熱處理技術網 — 熱處理行業的超級智庫 CHTE 最全的熱處理技術信息網站 熱處理技術網 CHTE

陰極真空浸蝕，開始于30年代，用一般浸蝕方法難以顯示組織的情況下，用此法得到好的結果，目前廣泛用來顯示各種材料的顯微組織，如金屬，金屬陶瓷，陶瓷和半導體等。在輝光放電的環境中，用正離子轟擊試樣表面使試樣表面上的原子有選擇地去掉，從而顯露了組織。XyJ熱處理技術網 — 熱處理行業的超級智庫 CHTE 最全的熱處理技術信息網站 熱處理技術網 CHTE

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圖1    陰極真空浸蝕設備簡圖XyJ熱處理技術網 — 熱處理行業的超級智庫 CHTE 最全的熱處理技術信息網站 熱處理技術網 CHTE

陰極真空浸蝕試樣時，將已拋光好的試樣，去掉任何的夾具，放在用水冷卻的鋁支架上和鋁制陽極一起密封在真空室內。隨后用機械泵抽真空至小于10^-5mmHg柱，然后，充以惰性氣體氬，用調壓閥控制其壓力，使氣壓保持在10^-2mmHg柱（10umHg柱），接通高壓電源，增加到給定電壓，經過短的誘發期而產生輝光，浸蝕即開始。浸蝕的時間因材料而異，從幾秒鐘到幾分鐘。達到規定時間后，立即斷電源，關閉控制閥，打開真空室，取出試樣，進行顯微觀察。XyJ熱處理技術網 — 熱處理行業的超級智庫 CHTE 最全的熱處理技術信息網站 熱處理技術網 CHTE